針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)有機(jī)廢氣和毒性氣體的治理，我們嘗試使用低溫等離子廢氣處理技術(shù)，處理效果相較之前的廢氣治理技術(shù)有了的提升。

半導(dǎo)體企業(yè)使用了大量繁多的有機(jī)物，而污染物對(duì)環(huán)境的影響比較大。半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生的有機(jī)廢氣，主要可以分為，半導(dǎo)體制造工藝產(chǎn)生的有機(jī)廢氣，和半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的有機(jī)廢氣。

1、廠家處理有機(jī)廢氣和毒氣的處理方法

現(xiàn)在，國(guó)內(nèi)治理有機(jī)廢氣和毒性氣體的技術(shù)是差不多的，因此，對(duì)于，這兩種廢氣治理技術(shù)我們合并討論。

現(xiàn)在，半導(dǎo)體制造過(guò)程中排放的含有有機(jī)成分的廢氣(voc)通常采用直接焚燒、活性炭吸附、生物氧化等方法進(jìn)行處理。但這3種方法都有的弊端：

l  低濃度大風(fēng)量的有機(jī)廢氣直接焚燒會(huì)造成大量的燃料消耗和不的污染，只有較高濃度的有機(jī)廢氣才建議直接焚燒，半導(dǎo)體制造的有機(jī)廢氣排放特點(diǎn)就是濃度低、風(fēng)量大，因此考慮將有機(jī)廢氣濃縮后再進(jìn)行焚燒處理。

l  活性碳吸附的方法，由于其材料特性，存在易燃燒、水分敏感度高、脫附后殘留負(fù)荷高等缺點(diǎn)，在半導(dǎo)體行業(yè)基本不再使用。

l  生物氧化技術(shù)作為一種較新的處理技術(shù)，還有待在處理大風(fēng)量方面做進(jìn)一步的研究和發(fā)展。

2、針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)有機(jī)廢氣和毒性氣體的治理，低溫等離子廢氣處理技術(shù)的凈化原理是：

將普通的220V/380V交流電通過(guò)變壓器，變頻器轉(zhuǎn)換為高頻高壓的電壓，產(chǎn)生足以擊穿氣體的電壓，釋放出電子，電子破壞有機(jī)廢氣中的氣體分子之間的化學(xué)鍵，斷開(kāi)這些化學(xué)鍵從而產(chǎn)生了各種碳原子、氧原子、氫原子、氫氧自由基、臭氧等混合體，等離子體中的氧原子和碳原子結(jié)合形成二氧化碳，氧原子和氫原子結(jié)合形成水分子，終產(chǎn)生排放到大氣中的氣體為的二氧化碳（CO2）和水(H2O)。

3、低溫等離子廢氣處理技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)：

l  放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用。

l  反應(yīng)快，不受氣速限制。

l  采用防腐蝕材料。

l  只需用電，操作極為簡(jiǎn)單。

l  設(shè)備啟動(dòng)、停止十分迅速，隨用隨開(kāi)，常溫常壓下即能使用。

l  氣阻小，適用于大風(fēng)量的廢氣處理。

4、低溫等離子廢氣處理技術(shù)可治理以下半導(dǎo)體企業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣：

Ø  集成電路生產(chǎn)企業(yè)：主要包括數(shù)字集成電路板及模擬集成電路板生產(chǎn)企業(yè)

Ø  分立器件生產(chǎn)企業(yè)：主要包括晶體二極管、三極管，整流二極管，功率二極管、化合物二極管等生產(chǎn)制造企業(yè)

Ø  光電組件生產(chǎn)企業(yè)：包括LED、OLED、LCD、光伏太陽(yáng)能等的生產(chǎn)制造企業(yè)。

5、半導(dǎo)體企業(yè)廢氣排放特征分析

半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。 

6、半導(dǎo)體行業(yè)有機(jī)廢氣和毒氣的來(lái)源

Ø  半導(dǎo)體制造工藝產(chǎn)生的揮發(fā)性有機(jī)廢氣，主要來(lái)源于光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工序，在這些工序中要用有機(jī)溶液（如異丙醇）對(duì)晶片表面進(jìn)行清洗，其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機(jī)廢氣的來(lái)源之一；同時(shí)，在光刻、刻蝕等過(guò)程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發(fā)的有機(jī)溶劑，如醋酸丁酯等，在晶片處理過(guò)程中也要揮發(fā)到大氣中，是有機(jī)廢氣產(chǎn)生的又一來(lái)源。

與半導(dǎo)體制造工藝相比，半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的有機(jī)廢氣較為簡(jiǎn)單，主要為晶粒粘貼、封膠后烘烤過(guò)程產(chǎn)生的烘烤廢氣。

Ø  含毒氣性廢氣，其來(lái)源為化學(xué)氣相沉積、干蝕刻機(jī)、擴(kuò)散、離子布值機(jī)及磊晶等制程時(shí)所產(chǎn)生。主要成分是磷化氫、砷化氫、氯氣等。

7、半導(dǎo)體行業(yè)廢氣組成分析：

半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生的廢氣，主要可以分為4大類(lèi)：